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快速退火爐的相關(guān)介紹
日期：2025-05-10 08:31
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摘要：
快速退火爐是利用鹵素紅外燈做為熱源，通過極快的升溫速率，將晶圓或者材料快速的加熱到300℃-1200℃，從而消除晶圓或者材料內(nèi)部的一些缺陷，改善產(chǎn)品性能。
快速退火爐采用先進的微電腦控制系統(tǒng)，采用PID閉環(huán)控制溫度，可以達到極高的控溫精度和溫度均勻性，并且可配置真空腔體，也可根據(jù)用戶工藝需求配置多路氣體。
快速退火爐（芯片熱處理設(shè)備）廣泛應(yīng)用在IC晶圓、LED晶圓、MEMS、化合物半導體和功率器件等多種芯片產(chǎn)品的生產(chǎn)，和歐姆接觸快速合金、離子注入退火、氧化物生長、消除應(yīng)力和致密化等工藝當中，通過快速熱處理以改善晶體結(jié)構(gòu)和光電性能，技術(shù)指標高、工藝復雜、專用性強。
尊敬的客戶：
您好，我司是一支技術(shù)力量雄厚的高素質(zhì)的開發(fā)群體，為廣大用戶提供高品質(zhì)產(chǎn)品、合適的解決方案和技術(shù)服務(wù)公司。主要產(chǎn)品有 等離子清洗機、旋轉(zhuǎn)勻膠機、真空鍍膜設(shè)備等。本企業(yè)堅持以誠信立業(yè)、以品質(zhì)守業(yè)、以進取興業(yè)的宗旨，以更堅定的步伐不斷攀登新的高峰，歡迎新老顧客放心選購自己心儀的產(chǎn)品。我們將竭誠為您服務(wù)！
快速退火爐采用先進的微電腦控制系統(tǒng)，采用PID閉環(huán)控制溫度，可以達到極高的控溫精度和溫度均勻性，并且可配置真空腔體，也可根據(jù)用戶工藝需求配置多路氣體。
快速退火爐（芯片熱處理設(shè)備）廣泛應(yīng)用在IC晶圓、LED晶圓、MEMS、化合物半導體和功率器件等多種芯片產(chǎn)品的生產(chǎn)，和歐姆接觸快速合金、離子注入退火、氧化物生長、消除應(yīng)力和致密化等工藝當中，通過快速熱處理以改善晶體結(jié)構(gòu)和光電性能，技術(shù)指標高、工藝復雜、專用性強。
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