帶振動(dòng)樣品臺(tái)的三靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有三個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺(tái)直流電源，一臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。

磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時(shí)間穩(wěn)定工作。

設(shè)備配有變頻振動(dòng)的震動(dòng)型樣品臺(tái)，可以將放置在上面的粉末或者顆粒不規(guī)則的翻動(dòng)，以確保在鍍膜過程中所有的顆粒的表面能包覆上鍍層，避免鍍膜不勻的情況，是專為顆粒型樣品所設(shè)計(jì)的PVD設(shè)備。

三靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

項(xiàng)目		明細(xì)
供電電壓		AC220V，50Hz
整機(jī)功率		6KW
極限真空度		5x10-4Pa
載樣臺(tái)參數(shù)	尺寸	φ150mm
	振動(dòng)方式	變頻電機(jī)驅(qū)動(dòng)齒輪
磁控濺射頭參數(shù)	數(shù)量	斜置3個(gè)2”磁控濺射頭 與垂直方向夾角15°
	冷卻方式	水冷，所需流速10L/min
	水冷機(jī)規(guī)格	10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)
真空腔體	腔體尺寸	φ300mm X 340mm H
	腔體材料	不銹鋼
	觀察窗口	φ100mm
	開啟方式	上頂開式，便于更換靶材
氣體流量控制器		1路200sccm Ar；
真空泵		配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S
膜厚儀		石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái)，分辨率0.10 ?
濺射電源		直流電源2臺(tái)，500W，適用于制備金屬膜 射頻電源1臺(tái)，500W，適用于非金屬鍍膜
操作方式		一體機(jī)電腦操作
整機(jī)尺寸		1090mm X 900mm X 1250mm
整機(jī)重量		350kg